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武汉中地数码科技园科技综合楼项目 验收公示

发布时间:2018-03-01 浏览次数:666

中地数码集团以中国地质大学和地理信息系统软件及其应用教育部工程研究中心为依托,经过二十多年的发展,已经成为国内最大的专业从事地理信息系统(GIS)研究、开发、应用和服务的GIS平台及解决方案服务提供商。集团原址位于武汉东湖新技术开发区关山大道特一号光谷软件园,因公司扩展需要,武汉中地数码科技有限公司在关山大道与三环线高架桥交叉路口建设武汉中地数码科技园科技综合楼。项目位于武汉市东湖新技术开发区关山大道与三环线高架桥交叉路口,主要建设科技综合楼(包括主楼塔楼、裙楼及辅楼),用于办公、软件研发及交流培训等。科技综合楼总用面积为33942.4 m2,建筑占地面积8327.5m2,总建筑面积为60658.4 m2,其中地上建筑面积为49197.2 m2,地下建筑面积11461.2 m2,容积率1.45,主楼塔楼层数为11层,裙楼层数为2层,辅楼层数为4层,建筑分类为二类建筑,耐久年限为50年,耐火等级一级,耐水等级二级。

   武汉中地数码科技有限公司于2011年2月28日委托中国地质大学环境评价研究所承担“武汉中地数码科技有限公司武汉中地数码科技园科技综合楼项目”环境影响报告表的编制工作,并于2011年5月编制完成《武汉中地数码科技有限公司武汉中地数码科技园科技综合楼建设项目环境影响报告表》提交给建设单位,报武汉市环境保护局东湖新技术开发区分局审批。2011年5月20日武汉市环境保护局东湖新技术开发区分局以武环新审[2011]32号文下达了对该项目环境影响报告表的审批意见。该项目于2011年9月15日开工建设,于2016年11月11日投入试运行。

http://www.cti-cert.com/upload/file/admin/2018/20180301/201803011111017242.pdf